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產(chǎn)品名稱(chēng): Getinge GEW-PBLC系列GMP清洗干燥機產(chǎn)品型號:產(chǎn)品時(shí)間: 2023-11-20Getinge GEW-PBLC系列GMP清洗干燥機是潔定Getinge個(gè)無(wú)菌處理系統中不可分割的一部分。潔定Getinge GEW系列清洗-干燥機專(zhuān)為滿(mǎn)足制藥工業(yè)需求而設計的。它以一個(gè)通用型的清洗-干燥機為基礎,通過(guò)配置的改變,可以滿(mǎn)足不同用戶(hù)的不同需求。
產(chǎn)品介紹
Getinge GEW-PBLC系列GMP清洗干燥機是潔定Getinge個(gè)無(wú)菌處理系統中不可分割的一部分。潔定Getinge GEW系列清洗-干燥機專(zhuān)為滿(mǎn)足制藥工業(yè)需求而設計的。它以一個(gè)通用型的清洗-干燥機為基礎,通過(guò)配置的改變,可以滿(mǎn)足不同用戶(hù)的不同需求。
基礎模塊的清潔能力已遠高于行業(yè)標準的要求。清洗艙由316L不銹鋼制成,并經(jīng)過(guò)拋光和表面鈍化,不存水??蚣懿牧蠟?04不銹鋼,配以316L不銹鋼面板,經(jīng)久耐腐蝕。
鉸接式維修門(mén),開(kāi)在機器的前面,便于保養維護。
清洗-干燥機的鋼化玻璃門(mén)為垂直滑動(dòng)式,全自動(dòng)門(mén)并配有安全系統,可保護操作者,操作簡(jiǎn)便;使用符合人體工程學(xué)要求的推車(chē)和層架系統裝卸載。
設備的管道系統全部采用316L不銹鋼,按衛生級標準裝配,全自動(dòng)滾機焊,所有浸潤面的最小坡度為2%。所有焊縫都經(jīng)光學(xué)孔徑儀檢查,檢查結果均記錄在案,以備核查。
Getinge GEW-PBLC系列GMP清洗干燥機共有4個(gè)型號,每個(gè)型號又有不同配置可供選擇:
GEW P系列
適用于藥品生產(chǎn)企業(yè)。GEW P系列清洗干燥機與其他功能模塊構成的系統,可滿(mǎn)足對零部件及組件的嚴格清潔需求。
GEW B系列
對生物工程制藥行業(yè)而言,因產(chǎn)品不同,其技術(shù)要求及清潔要求也不盡相同。GEW B系列清洗干燥機與GEW P系列采用同一平臺,但特別針對生物工程用戶(hù)的需求而進(jìn)行了優(yōu)化。
GEW L系列
主要適用于實(shí)驗室,對玻璃器皿和用具實(shí)行高效的清潔。實(shí)驗室的預算有限,但對設備的有效性和可重復性要求很高,GEW L系列清洗-干燥機很好地滿(mǎn)足了上述要求。
GEW C系列
越來(lái)越多的化妝品行業(yè),也開(kāi)始要求符合cGMP清潔。本系列清洗-干燥機可游刃有余地使用各種化學(xué)清潔劑,以*清理各種難治性污漬。
主要優(yōu)點(diǎn)
符合ASME BPE要求的處理系統及其組件
帶有垂直出口和監測系統的衛生級沃碦莎(Sanitary Waukesha)3A主循環(huán)泵
處理系統采用鍛接蓋米(GEMU)316L衛生級隔膜閥,符合BPE及USPVI級的要求
所有與處理過(guò)程有關(guān)的接觸性元器件均采用316L不銹鋼,其中密封圈采用的硅膠均符合FDA 21CFRPart 177中有關(guān)GMP的規定
管道系統中的死角長(cháng)度不超過(guò)4D,所有濕面的傾斜率不低于2%
腔體的轉角半徑為12mm,水環(huán)路拋光后光潔度RA<0.6</25μinch,并進(jìn)行鈍化
符合GAMP 4要求的完備的文件,包括焊接文件,鍛尖及Rockwell/Allen Bradley光學(xué)孔徑儀檢查結果
多種全自動(dòng)化操控系統備選--潔定PACS、Rockwell/Allen Bradley或者Siemens系統
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